真空鍍鈦廠(chǎng)家對機械部件間隙控制涂層：該種涂層可磨。耐熱涂層：該種涂層包含高溫進(jìn)程(其中有氧化空氣、腐蝕性氣體、高于843℃的沖蝕及熱障)和熔融金屬進(jìn)程(其中有熔融鋅、熔融鋁、熔融鐵和鋼、熔融銅)所應用的涂層?；謴统叽缤繉樱涸摲N涂層用于鐵基(可切削與可磨削的碳鋼和耐蝕鋼)和有色金屬(鎳、鈷、銅、鋁、鈦及他們的合金)制品。

極限真空度：（單位：P：在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的低壓強。一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過(guò)反應濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學(xué)反應無(wú)法繼續進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導，所以，化學(xué)反應必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進(jìn)行。

陽(yáng)極離子源類(lèi)似于霍爾離子源。在環(huán)形(矩形或圓形)窄間隙內施加強磁場(chǎng)，工作氣體電離后在陽(yáng)極的作用下向工件發(fā)射。陽(yáng)極離子源可以做得很長(cháng)，特別適合鍍大型工件，如建筑玻璃。陽(yáng)極離子源的離子電流也較大。但是離子電流發(fā)散，能級分布太寬。一般適用于大型工件、玻璃、磨損和裝飾工件。然而，在光學(xué)涂層中應用并不多?？挤蚵x子源是較早使用的離子源。屬于網(wǎng)格離子源。